埃特曼携手DCA 参加第十五届全国分子束外延学术会议

发布于: 2023-11-03 14:36

2023年10月10日至13日,埃特曼携手全球领先的MBE设备制造商DCA,与全国科研院所、高等院校、MBE上下游设备制造商等500余名行业人员一道参与第十五届全国分子束外延(MBE)学术会议,共同探讨我国MBE未来发展方向,拓宽MBE的应用领域。

会议期间,埃特曼展台吸引众多参会者前来交流学习。

展台及产品介绍

中国科学院物理研究所研究员、中国分子束外延技术奠基人之一,埃特曼首席科学家周均铭先生以“生长GaN基材料的混合MBE技术”为主题做了首个大会报告。报告围绕混合MBE设备技术,以及使用混合MBE技术生产相关GaN器件的发展前景展开,引起参会人员广泛关注。周均铭先生表示:“混合MBE技术是实现高质量GaN基材料生长的关键,其在N极性HEMT的特色与优势,为新一代电子器件的研发提供了新思路。作为国内首家将生长GaN基的MBE技术从研究推向产业化的企业,埃特曼在研的3*8生产型混合MBE设备将为MBE产业的发展做出重大贡献。”

 


为鼓励表彰国内MBE技术的进展和成果,从本届MBE大会开始,以4位国内MBE技术先驱名义设立冠名奖。首届“周均铭MBE产业化贡献奖”颁发给了中国科学院半导体研究所的杨成奥博士。

 


此外,埃特曼研发中心副总监彭长四教授也受邀在分会场上以“与MBE生长原位、同步、无晶格缺陷激光纳米结构制备和光刻解决方案”为主题做邀请报告。

 

未来,埃特曼将重点运用MBE技术在氮化镓材料和器件领域的优势,通过为客户提供量身定制创新的解决方案,打造全面立体的生态链,成为用户最可信赖的专家,帮助企业突破业务上的难题,实现可持续增长。